Vďaka vyšším a vyšším požiadavkám na presnosť čistenia káblov vysokej kvality a zvyšovaniu povedomia o ochrane životného prostredia je technológia čistenia laserom rozpoznávaná a vyvinutá ako nová čistiaca metóda. Technológia čistenia laserom používa hlavne laserové lúče na odstránenie príloh na povrch, ktorý sa má čistiť vysokou rýchlosťou. Šetrí čas, úsilie a vodu a je bezpečný, spoľahlivý, široko použiteľný a ľahko ovládateľný. Najmä pre kamenné rezbárske práce, kamenné rezbárske práce, jemné kamenné stavby, ako sú rôzne rohy a staromódne kamenné artefakty a iné vysoko kvalitné čistenie kameňov, výhody technológie čistenia laserom nepredstavujú mnohé tradičné čistiace techniky. Preto možno povedať, že čistenie laserom je hlavným pokrokom v technológii čistenia a propagácia a aplikácia technológie čistenia laserom bude určite robiť priemysel na čistenie kameňa ešte silnejší. Z povrchu objektu; Po tretie, molekuly nečistôt sa okamžite odparujú, odparujú alebo rozkladajú. Technológia čistenia laserom je použitie vibrácií laserovým impulzom, tepelná expanzia častíc a rozklad molekulárneho svetla alebo fázová zmena troch druhov úloh alebo ich kombinovaný účinok na prekonanie väzobnej sily medzi povrchom nečistôt a podkladovým materiálom , takže je z povrchu predmetu dosiahnuť Účel čistenia.
Podľa analýzy optických vlastností vyčisteného matricového materiálu a znečisťujúcich látok sa môže laserový čistiaci mechanizmus ďalej rozdeliť do dvoch kategórií: jeden je rozdiel v koeficiente absorpcie energie lasera pri určitej vlnovej dĺžke v dôsledku adhézie materiál substrátu a povrchovú nečistotu tak, že laser je energia úplne absorbovaná pripojenými nečistotami tak, že sa tepelne rozťahuje alebo vyparuje a prchavá a odparovaný prúd vytvorený odparovaním sa odvádza od matricového materiálu, aby sa dosiahol účel čistenie. Požiadavka spočíva v tom, že koeficient absorpcie energie lasera materiálu matrice je malý.
Kombinované sily nečistôt a kamenných povrchov sú hlavne fyzikálne a slabé chemické sily. Slabé chemické sily zahŕňajú vodíkové väzby a energiu spojenú s prenosom náboja. Fyzické sily zahŕňajú sily van der Waals (vrátane elektrostatických, indukovaných a disperzných) a kapilárne sily. Dôvod, prečo je kameň ťažšie čistiť ako ostatné povrchové materiály, je spôsobený existenciou veľkého množstva mikropórov v prírodnom kameňa. Kapilárna sila mikropórov nielenže zvyšuje rôzne väzbové sily medzi nečistotou a kameňom, ale tiež spôsobuje obalový efekt každého. Je ťažké pracovať s čistiacou silou.
Laser je druh svetelného žiarenia s dobrou monochromatičnosťou a smernosťou. Kombinácia zrkadiel môže zaostriť lúč a sústrediť lúč v malej oblasti alebo oblasti. Laserový lúč môže produkovať aspoň tri aspekty: Najprv vytvorí mechanickú rezonanciu na pevnom povrchu, aby sa povrchová vrstva alebo kondenzát prerušili; po druhé, roztiahne povrchovú vrstvu, aby prekonala adsorpciu substrátového materiálu na nečistotách. Nebude to poškodené, takže kľúčom k dosiahnutiu bezpečného a účinného čistenia je výber správnej vlnovej dĺžky laseru a riadenie miernej hustoty energie. Druhý typ spočíva v tom, že koeficient absorpcie laserového lúča medzi substrátovou látkou a povrchovou pripevňovacou látkou nie je veľmi odlišný, alebo čistenie povrchovej prídavnej látky pri výrobe toxických látok sa zvyčajne vykonáva pulzným laserovým šokom s vyššou frekvenciou a výkonom , Na povrchu sa niektoré svetelné lúče premieňajú na zvukové vlny. Zvuková vlna sa vráti po zasiahnutí tvrdého povrchu spodnej strednej vrstvy. Vrátená časť zasahuje do ľudských zvukových vĺn generovaných laserom, čím vytvára rezonančné vlny s vysokou energiou, čo spôsobuje drobné praskliny vo vrstve váhy, čo spôsobuje rozbitie a ľahko sa rozdrví. Odstráňte povrch podkladu.
Na čistenie povrchu kameňa sa vyššie uvedené mechanizmy často používajú v kombinácii. Frekvencia impulzov laserového svetla (0,5 až 30 impulzov za sekundu) a amplitúdy (8 až 25 ns) sú zvyčajne založené na stave ošetreného kameňa a nečistôt, čo umožňuje nečistotám správne absorbovať svetelnú energiu. Opakovaný kmitočtový impulzný impulzný laser môže uvoľniť koksovú stupnicu na povrchu kameňa a mikropórov. Ak je rázová sila laseru väčšia ako adsorpčná sila substrátu na častice nečistôt, častice nečistôt sa oddelia od podkladu, aby sa dosiahlo účel čistenia. Keď je energia laserového fotónu väčšia ako energia molekúl znečistenia (adhéznej vrstvy), účinky lasery fotodekompozície a fotoexpolácie pôsobia jeden po druhom. Energia excimerového fotónového efektu KrF je napríklad 5 eV, čo je väčšie ako organické kontaminanty OO, HH, OH, CC, energie väzby CH a NH a ďalších chemických väzieb, úloha laseru môže zničiť časť chemická väzba, rozkladajú organické látky, ktoré môžu čistiť organický olej. Keď hustota energie laserového lúča ďalej stúpa, niektoré anorganické nečistoty. Napríklad soli, ktoré obsahujú K, Na a anorganické látky vytvorené fotodeznačením organickými pôdami, môžu byť laserom tepelne expandované, aby sa vytvoril termálny peeling (tj oddelenie fotograficky) na oddelenie od povrchu substrátu. Aby sa plne využili rôzne funkcie lasera a zvýšil čistiaci účinok lasera, povrch čisteného substrátu je umelo potiahnutý nejakou vodou alebo zmiešanou kvapalinou vody a metanolu alebo etanolu vopred. Keď sa laserové svetlo ožaruje na kvapalnom filme, kvapalná fólia sa bude výbušne vyparovať v dôsledku rýchleho ohrevu a náraz explózie uvoľní nečistoty na povrchu substrátu a odleje z povrchu substrátu aby sa dosiahla dekontaminácia. Pri tejto metóde, aj keď existujú aj vibrácie častíc nečistôt a tepelná expanzia častíc, dominantný je vplyv výbušnej nárazovej vlny. Táto metóda sa tiež nazýva metóda laser + kvapalina. Hrúbka tekutého filmu pokrývajúceho povrch substrátu je vo všeobecnosti 10 / m. ,
