Pulzný proces čistenia laserom Nd: YAG sa opiera o charakteristiky svetelných impulzov produkovaných laserom, založené na lúčoch s vysokou intenzitou, krátkych impulzoch.
Fotofyzikálne reakcie spôsobené interakciami medzi laserom a kontaminovanými vrstvami. Jeho fyzikálne princípy možno zhrnúť takto:
1) lúč vyžarovaný laserom je absorbovaný kontaminovanou vrstvou na ošetrovanom povrchu.
2) Absorpcia veľkých energií vytvára rýchlo sa rozširujúcu plazmu (vysoko ionizovaný nestabilný plyn), ktorý generuje rázovú vlnu.
3) Nárazová vlna spôsobuje, že kontaminanty sa stávajú fragmentmi a odmietajú.
4) Šírka svetelného pulzu musí byť dostatočne krátka, aby sa zabránilo nahromadeniu tepla, ktoré by poškodilo ošetrovaný povrch.
5) Experimenty ukázali, že keď je oxid na povrchu kovu, plazma sa vytvára na kovovom povrchu.
Plazma sa generuje len vtedy, keď je hustota energie nad prahovou hodnotou, čo závisí od odstránenia kontaminovanej alebo oxidačnej vrstvy. Táto prahová hodnota
Tento efekt je dôležitý pre efektívne čistenie pri zabezpečení bezpečnosti podkladového materiálu. Existuje aj druhý limit pre prítomnosť plazmy. Ak je to možné
Keď množstvo hustoty prekročí túto hranicu, materiál substrátu sa zničí. Aby sa zabezpečilo účinné čistenie podkladového materiálu, musí byť založené na
Parametre lasera sú nastavené tak, aby hustota energie svetelného impulzu bola presne medzi dvoma prahmi.
Každý laserový impulz odstraňuje určitú hrúbku kontaminovanej vrstvy. Ak je kontaminovaná vrstva silná, na čistenie sa vyžaduje viac impulzov. Sušte povrch
Množstvo impulzov potrebných na sieťovanie závisí od stupňa povrchovej kontaminácie. Dôležitým výsledkom dosiahnutým týmito dvoma prahovými hodnotami je sebakontrola čistenia. Vysoká hustota energie
Svetelné impulzy na prvom prahu vždy odmietajú nečistoty, kým sa nedosiahne materiál substrátu. Avšak, pretože jeho hustota energie je nižšia ako hustota substrátu
Prah sa zničí, takže podklad nie je poškodený.
